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        —— 埃 及

        جمهوريّة مصرالعربيّة

        集成电路布图设计

          埃及《知识产权保护法》第一卷中规定了对专利权的保护,在2002年6月3日公开的最新修订版中,扩大了法律保护的范围,将实用新型、集成电路布图设计和未披露信息也纳入其中。

          布图设计指为制造集成电路而准备的三维配置,埃及对原创的集成电路布图设计给予保护,保护期共10年。如果权利人在埃及境内或境外已商业性利用某一集成电路布图设计超过2年,不得再就该布图设计提出登记申请。

        埃及专利局

          埃及专利局(Egyptian Patent Office,EGPO)成立于1951年,从1971年起隶属于埃及科学技术研究院(Academy of Scientific Research And Technology,ASRT)。根据埃及现行的法律,EGPO的职责主要包括:

          (1)对来自本国或其他国家的专利申请进行注册;

          (2)授予和颁发专利,以保护埃及和外国人发明人的所有权;

          (3)收集整理外国专利申请,以便于审查员和用户访问;

          (4)传送世界各地专利中的技术信息,助力学术研究及本地工业的发展;

          (5)通过帮助发明人参加展览及评奖活动,对其给予鼓励;

          (6)定期(每月)发布官方公报,内容包括专利申请、授权等内容。

         网站:www.egypo.gov.eg

         电话:+202 27921291,27921274,27921272

         传真:+202 27921272

         Email:patinfo@egypo.gov.eg 

         地址:101 Kasr Al Ainy st., Cairo, Egypt

        定义

          根据埃及《知识产权保护法》第45条,集成电路(integrated circuit)指一个产品,在其最终形式或中间形式中,其元件(至少有一个是有源元件)及其部分或全部的互连被集成在一块绝缘材料上,并且旨在执行特定的电子功能。

          布图设计(layout design),指为制造集成电路而准备的三维配置。

        受保护的条件

          埃及对原创的集成电路布图设计给予保护。

          如果布图设计是其创作者自己的智力成果,并且对于相关领域的专业人员来说不是常见的一般知识,则应认为该布图设计是新的。

          尽管如此,如果布图设计中各元件的组合以及他们的互连方式是原创的,那么即使构成布图设计的元件对于相关领域的专业人员来说属于一般知识,该布图设计也是新的。

          《知识产权保护法》第47条规定,保护不适用于任何概念、方法、技术或存储在集成电路版图设计中的任何编码信息。

        权利及限制

          《知识产权保护法》第50条规定,未经布图设计权利人的事先书面授权,任何自然人或法人实体均不得进行下列任何行为:

           复制,不论是用于集成电路或其他方式,也不论是使用全部或部分受保护的布图设计;

           为交易目的而进口、销售或分销包含受保护布图设计的产品,不论其是独立的产品还是作为产品的组成部分。

          但是,《知识产权保护法》第51条也规定了保护的限制。在不损害法律规定的保护条款的情况下,未经权利人授权,自然人或法人实体可以采取下列一项或多项行为:

           复制或商业性利用(包括进口、销售或分销)包含受保护布图设计的集成电路或者包含此类集成电路的产品,只要在该行为发生时,行为人不知道或者没有可能知道上述集成电路或产品中含有受保护的布图设计。
          在这种情况下,购买方可以向权利人支付合理补偿,并通过挂号信通知权利人其拥有的集成电路或产品中使用了受保护的集成电路后,处理库存或订单。

           个人使用,或用于测试、检查、分析、教学、培训或科学研究目的。

           独立创建了一个与另一受保护设计相同的布图设计。

           进口受保护的布图设计或使用受保护的布图设计生产的集成电路,无论该集成电路是独立的还是包含在产品中。

        保护期

          《知识产权保护法》第48条规定,埃及对集成电路布图设计的保护期共10年,自注册申请的申请日起算,或者自该设计首次在埃及境内外被商业利用起算,以较早者为准。

          但不论如何,对集成电路布图设计的保护应在其被创作完成之日起15年后停止。

          根据埃及《知识产权保护法》第49条,如果权利人在埃及境内或境外已商业性利用某一集成电路布图设计超过2年,不得再就该布图设计提出登记申请。

        登记集成电路布图设计的程序

          1.提交申请

          埃及集成电路布图设计登记申请向EGPO提交,申请人应使用规定的表格。一项申请中只能包含一个布图设计。

          根据埃及《知识产权保护法实施条例》(以下简称《条例》)第61条,申请材料中应包含:

          (1)反映三维设计的图纸,显示设计中申请人寻求保护的部分;

          (2)寻求布图设计保护的集成电路的样品;

          (3)对寻求保护的集成电路的电子功能的解释;

          (4)如果申请人是法人实体,提供该实体商业登记的摘录,或者宪法法案或决定的官方复印件;

          (5)在埃及境外首次使用所申请布图设计的经认证证明;

          (6)在埃及境外首次递交该布图设计注册申请的经认证证明;

          (7)已交纳申请费的收据;

          (8)证明申请人资格的文件;

          (9)证明布图设计转让的文件(如有)。

          2.登记

          《条例》第63条规定,EGPO应为集成电路布图设计申请建立特殊的登记簿,并记录以下信息:

          (1)申请号和申请日;

          (2)申请人的姓名、国籍和职业,申请人是自然人还是法人;

          (3)代理人的姓名(如有);

          (4)首次利用该布图设计的国家或地区的名称,以及首次利用的日期;

          (5)首次提交注册申请的国家或地区的名称;

          (5)此前取得注册证书的时间,及证书编号。

          《条例》第64条规定,在没有特殊规定的情况下,集成电路布图设计应受与本条例下专利有关规定的约束。更多内容,可参见《条例》。

        收费项目 金额(埃及镑)
        申请费 1000

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